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    • NEXT HD Pro　
    • Next HD Pro 70A
    • Next HD Pro 70A는 Novec 71DA의 직접 대체제로 개발된 고성능 솔벤트입니다.
    • NEXT HD Pro　
    • HD Pro 70
    • HD Pro70은 Novec 71DE의 직접 대체품으로 설계된 매우 효과적인 솔벤트이며, 우수한 세척 성능과 환경적 책임을 제공합니다.
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    • NEXT HD Pro　
    • HD Pro 43A
    • Next HD Pro 43A는 Novec 72DA의 대체제로 특별히 제조된 최첨단 솔벤트입니다. 1,2-트랜스 디클로로에틸렌과 하이드로플루오로에테르(HFE)의 강력한 세척 능력을 결합한 Next HD Pro 43A는 전자, 항공우주, 정밀 엔지니어링을 포함한 광범위한 산업 응용 분야에서 효과적인 탈지 및 입자 제거를 제공하도록 설계되었습니다.
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    • NEXT HD Pro　
    • HD Pro 43
    • Next HD Pro 43은 Novec 72DE의 직접 대체제로 설계된 고성능 솔벤트입니다. 뛰어난 세척력을 제공하도록 설계되었으며, 1,2-트랜스 디클로로에틸렌과 하이드로플루오로에테르(HFE)의 균형 잡힌 구성이 특징으로, 효율성과 환경 안전성을 모두 보장합니다
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    • NEXT HD Pro　
    • HD Pro
    • Next HD Pro는 전자, 항공우주, 의료 산업의 정밀 세척 및 탈지 응용 분야에서 요구되는 높은 성능을 제공하는 세척 솔벤트 혼합물입니다. 1,2-트랜스 디클로로에틸렌과 플루오르화 운반 유체를 결합한 Next HD Pro는 민감한 표면에서 기름, 플럭스 및 기타 오염 물질을 잔여물 없이 효율적으로 제거합니다.
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    • Ensolv nPB　
    • EnSolv Ionic
    • EnSolv Ionic은 민감한 전자 및 항공우주 부품에서 이온성 및 비이온성 잔여물을 제거하기 위해 특별히 설계된 정밀 세척 솔벤트입니다. n-프로필 브로마이드와 맞춤형 첨가제를 기반으로 한 엔솔브 이온은 플럭스, 염분, 입자 물질과 같은 오염 물질을 효율적으로 제거하여 고신뢰성 응용 분야에서 최적의 성능을 보장합니다.
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    • Ensolv nPB　
    • EnSolv 5408
    • EnSolv 5408는 항공우주 및 전자 산업과 같은 고위험 산업에서 정밀 세척을 위해 설계된 보잉 인증 n-프로필 브로마이드 기반 세척 솔벤트입니다. 이 용제는 높은 용해력과 향상된 안정성을 갖추고 있어 금속 및 전자 부품에서 기름, 그리스, 플럭스 잔여물 및 기타 오염 물질을 효과적으로 제거할 수 있습니다.
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    • Ensolv nPB　
    • EnSolv
    • EnSolv는 정밀 세척 응용을 위한 강력한 탈지 성능을 제공할 수 있도록 설계된 고성능 n-프로필 브로마이드 기반 산업용 세척 솔벤트입니다. 오일, 그리스, 왁스 및 기타 오염 물질을 제거하는 데 탁월한 효과로 알려져 있는 EnSolv®는 항공우주, 자동차 및 전자 산업에서 일반적으로 사용되고 있습니다.
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    • PEAS-Free　
    • EnSolv Plus
    • EnSolv Plus는 솔벤트 세척 기술에 있어서 가장 최첨단의 기술을 보여줍니다. 현재 및 앞으로 예상되는 국내외 정의에 따라 PFAS를 포함하지 않도록 제조된 이 솔벤트는 nPB, TCE, 퍼클로로에틸렌 및 기타 1,2-트랜스 디클로로에틸렌 용제를 대체할 수 있는 용제입니다.
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    • Aqueous　
    • ETI 2515
    • ETI 2515 : 다양하게 사용 가능한 만큼 튼튼한 저거품, 중부하 알칼리성 세제의 힘을 경험하세요. 가공 오일, 스탬핑 오일 그리고 연삭 화합물을 제거하는데 완벽한 ETI 2515는 알루미늄을 포함한 티타늄,철 그리고 비철금속 물질에도 사용하기 안전합니다.
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    • Aqueous　
    • ETI 1800
    • ETI1800 : 힘든 세척 과제를 위한 최적의 솔루션입니다. 강력한 알칼리성 세제는 기계 가공 오일, 스탬핑 오일, 연마 화합물을 손쉽게 제거하면서도 알루미늄을 포함한 모든 금속에 부드럽게 작용합니다.
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